顯微分光膜厚儀是一種基于光的干涉和分光原理的高精度測量儀器
更新時(shí)間：2025-08-18
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顯微分光膜厚儀是一種高精度光學(xué)測量儀器，主要用于非破壞性、非接觸地測量薄膜、晶片、光學(xué)材料及多層膜的厚度，并分析其光學(xué)常數(shù)(如折射率、消光系數(shù))。基于光的干涉和分光原理。當(dāng)光線照射到薄膜表面時(shí)，會在薄膜的前后表面之間多次反射，形成干涉條紋。通過分光技術(shù)將這些干涉條紋分解為不同波長的光譜，并測量其強(qiáng)度分布，再利用相關(guān)算法計(jì)算出薄膜的厚度、折射率等參數(shù)。
顯微分光膜厚儀通過顯微光譜法，在微小區(qū)域內(nèi)測量絕對反射率。當(dāng)光線照射到薄膜表面時(shí)，會發(fā)生反射和透射現(xiàn)象，光線在薄膜前后表面多次反射形成干涉條紋。分光技術(shù)將這些干涉條紋分解為不同波長的光譜，并測量其強(qiáng)度分布，從而計(jì)算出薄膜的厚度、折射率(n)和消光系數(shù)(k)等參數(shù)。
特點(diǎn)
高精度測量:采用精密算法，實(shí)現(xiàn)亞納米級膜厚測量，確保結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。滿足不同厚度薄膜的測量需求。
非接觸式測量:測量過程中無需直接接觸樣品，避免外力對樣品造成損傷，保護(hù)樣品完整性。適用于貴重或脆弱薄膜材料(如半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)涂層)的測量。
快速測量與實(shí)時(shí)顯示:測量時(shí)間短至1秒/點(diǎn)，支持高速自動化掃描，提高檢測效率。實(shí)時(shí)顯示膜厚數(shù)據(jù)，便于快速分析。
廣波長范圍與多層膜解析:光學(xué)系統(tǒng)覆蓋紫外至近紅外波段(如230-1600nm)，適應(yīng)不同材料的光譜特性。支持多層膜結(jié)構(gòu)解析，可同時(shí)測量多層薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)。
用戶友好設(shè)計(jì):搭載易于分析的軟件向?qū)В词钩醮问褂谜咭材芸焖偻瓿晒鈱W(xué)常數(shù)分析。獨(dú)立測量頭支持客制化需求，適應(yīng)不同生產(chǎn)線的在線監(jiān)測場景。
